高纯晶硅溅射靶材制备技术与产业化

      随着现代工业的发展，真空镀膜技术被广泛的应用在工业玻璃、光学玻璃、液晶显示面板、触摸屏、太阳能电池、电子芯片等领域，以改善其光学或电学性能。

      一般来说，溅射靶材主要由靶坯、背板等部分构成。其中，靶坯是高速粒子束流轰击的目标材料，属于溅射靶材的核心部分；由于高纯度金属普遍较软，而溅射靶材需要安装在专用的机台内完成溅射过程，机台内部为高电压、高真空环境，因此，背板主要起到固定溅射靶材的作用，且需要具备良好的导电、导热性能。

      溅射镀膜过程中靶材被离子撞击时，被溅射飞散出，因被溅射飞散的物体附着于目标基板上而制成薄膜，溅射靶材就是高速荷能粒子轰击的目标材料，是沉积薄膜的原材料；而利用各种高纯单质贵金属及新型合金/化合物制得的功能薄膜则为高纯溅射靶材。此环节是在溅射靶材产业链条中对生产设备及技术工艺要求最高的环节，溅射薄膜的品质对下游产品的质量具有重要影响。



      溅射靶材的要求较传统材料行业高，一般要求如，尺寸、平整度、纯度、各项杂质含量、密度、N/O/C/S、晶粒尺寸与缺陷控制；较高要求或特殊要求包含：表面粗糙度、电阻值、晶粒尺寸均匀性、成份与组织均匀性、异物（氧化物）含量与尺寸、导磁率、超高密度与超细晶粒等等。

       本项目依托公司十余年多晶硅研发生产经验基础，对高纯溅射靶材进行横纵向产品规划，其中纵向以高纯硅溅射靶材为主要产品，开发生产包括（但不限于）平面、旋转及各种异型硅靶材产品；横向以国内市场自主研发生产能力薄弱的高纯金属靶材为产品目标，以摆脱由技术壁垒导致的产品束缚。

       高纯晶硅溅射靶材制备技术产品获得了靶材领军企业福建阿石创新材料股份有限公司、光学镀膜标杆企业利达光电股份有限公司和光洋化学应用材料科技（昆山）有限公司的认可。形成高纯硅平面靶材产品稳定输出，同时研发出多种异型硅靶材产品，如直径达到360 mm的圆形硅靶，解决了客户长期无法批量生产大尺寸硅靶的难题；研制的直径8 mm的棒状产品，为客户提供了微型靶材高精度、高品质产品服务。该成果的引入，能够有效地降低生产过程中的能耗，是一种低成本、环境友好的靶材产品制造方法，属于节能、环保的绿色制造技术；该技术的大规模应用和推广，可大幅增加就业岗位，提高企业的市场竞争力。